言多必失。
谈到自己曾经从事的职业，一个没忍住说出了一些现在不该说的话。
90年代还没有湿制成的技术出现，这个时代的光刻机还都是干式的没有液体参与。直到2002年，传统的193nm光刻机将芯片制成推动到65nm之后便陷入了瓶颈。
当年台积电一位总监级工程师在国际期刊上连续发表了三篇关于浸润式光刻机的设计构想。ASML对这一技术表现出了极大的兴趣，在ASML推动，台积电的协助下，用了三年时间，历史上颠覆性的产品193nm浸润式光刻机终于研制成功。而ASML也正是靠着这项技术，将当时领先于它的尼康跟佳能甩在了后面，从此世界光刻机市场从三足鼎立，变成了一家独大。Ｅ
但这种湿制成技术是2007年之后的事情了，他无意间竟然曝光了七年之后才被提出，十二年才正式登上历史舞台技术，韩文昌怎能不惊？
好在对面的谭言明显还在震惊于韩文昌之前那番话对于整个芯片产业的理解，没有深究之后这些话，只是微微拧了拧眉毛。
“小韩啊，你很好，真的很好！”谭言笔出了一根大拇指。
韩文昌心里松了口气，却也警醒了很多，在开口之前他必须得深思熟虑了，还好这是在自己家里，没有录音设备，大家听过就算了。如果这是在什么会议上，或者记者采访，留下了音频证据，他还真不好去解释了。
等等，浸润式光刻机技术？
松了一口气之后，韩文昌又开始心动了。他曾经仔细的研读过这项技术的原始论文，对于这项技术在试验过程中的技术难点也知之甚详。可以说只要有厂家的技术支持，绝对能事半功倍的将浸润式光刻机生产出来。
而这种颠覆性的芯片生产设备如果真是由他设计并生产出来，对于华夏的芯片产业升级绝对能产生极大的推动力。
想到这里韩文
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